کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6943040 | 1450334 | 2015 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Minimized program disturb for vertically stacked junctionless charge-trapping flash memory devices by adopting in-situ doped poly-silicon channel
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 147, 1 November 2015, Pages 5-9
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 147, 1 November 2015, Pages 5-9
نویسندگان
Hsin-Kai Fang, Kuei-Shu Chang-Liao, Chun-Yuan Chen, Po-Hao Chen, Dong-Yan Li, Chien-Pang Huang, Chang-Hong Shen, Jia-Min Shieh,