کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6943115 1450334 2015 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Optimal process integration of gate insulator and a-Si layers in large-sized a-Si thin-film-transistor
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Optimal process integration of gate insulator and a-Si layers in large-sized a-Si thin-film-transistor
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 147, 1 November 2015, Pages 201-205
نویسندگان
, , ,