کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6943362 1450340 2015 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High-aspect-ratio patterning by ClF3-Ar neutral cluster etching
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
High-aspect-ratio patterning by ClF3-Ar neutral cluster etching
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 141, 15 June 2015, Pages 145-149
نویسندگان
, , , , ,