دانلود مقالات ISI درباره مقاومت کردن + ترجمه فارسی

نشاسته مقاوم در برابر سرکوب هیپراتریگلیسیریدیم پس از پرندایل در موش صحرایی است

Resistant starch suppresses postprandial hypertriglyceridemia in rats

Keywords: مقاومت کردن; Cholic acid (PubChem CID: 221493); Deoxycholic acid (PubChem CID: 222528); Chenodeoxycholic acid (PubChem CID: 10133); Taurocholic acid (PubChem CID: 6675); Lipase (PubChem CID: 54603431); Ethanol (PubChem CID: 702); Citric acid (PubChem CID: 311); Resist

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2016 سفارش ترجمه

بهبود مستمر در تحمل تناسب اندام و ورزش در نوجوانان چاق پس از مداخله ورزشی 12 هفته ای

Sustained improvements in fitness and exercise tolerance in obese adolescents after a 12 week exercise intervention

Keywords: مقاومت کردن; Aerobic fitness; Anaerobic threshold; Exercise tolerance; Adolescents; RESIST

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 11 صفحه سال انتشار : 2016 سفارش ترجمه

چاپ نقد در لیتوگرافی تالبوت

Printability of defects in Talbot lithography

Keywords: مقاومت کردن; Talbot effect; Lithography; Simulation; Resist; Defect; Mask

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2015 سفارش ترجمه

Selective etching of PDMS: Etching technique for application as a positive tone resist

Keywords: مقاومت کردن; PDMS; Resist; Development; Etching; Irradiation; Proton Beam Writing (PBW);

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 8 صفحه سال انتشار : 2018 سفارش ترجمه

Selective etching of PDMS: Etching as a negative tone resist

Keywords: مقاومت کردن; PDMS; Resist; Development; Etching; Irradiation; Proton Beam Writing (PBW);

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 21 صفحه سال انتشار : 2018 سفارش ترجمه

Dynamics of radical cations of poly(4-hydroxystyrene) in the presence and absence of triphenylsulfonium triflate as determined by pulse radiolysis of its highly concentrated solution

Keywords: مقاومت کردن; Poly(4-hydroxystyrene); Deprotonation; Pulse radiolysis; Radiation chemistry; Resist;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2016 سفارش ترجمه

High-aspect-ratio patterning by ClF3-Ar neutral cluster etching

Keywords: مقاومت کردن; Resist; Reactive ion etching (RIE); ClF3-Ar; Neutral cluster etching; High aspect ratio;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2015 سفارش ترجمه

Study of the decomposition mechanism of PMMA-type polymers by hydrogen radicals

Keywords: مقاومت کردن; Polymer decomposition; Resist; Hot-wire; Hydrogen radical; PMMA-type polymers

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2015 سفارش ترجمه

Synthesis and property of noria (water-wheel like macrocycle) derivatives with pendant alkoxyl and adamantyl ester groups, and their application for extreme ultraviolet resist

Keywords: مقاومت کردن; Synthesis; Cyclic oligomer; Resist; Noria; Extreme ultraviolet; Dynamic covalent chemistry; Photo-acid generator

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2013 سفارش ترجمه

High molecular weight polystyrene as very sensitive electron beam resist

Keywords: مقاومت کردن; Nanofabrication; Nanolithography; Electron beam lithography; Resist; Polystyrene;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Preparation, characterization and technological evaluation of CMC derived from rice-straw as thickening agents in discharge, discharge-resist and burn-out printing

Keywords: مقاومت کردن; Carboxymethylcellulose; Discharge; Resist; Burn out; Printing;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Development of interference lithography for 22 nm node and below

Keywords: مقاومت کردن; Extreme ultraviolet; Interference; Transmission grating; Undulator; Resist

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Impact of molecular structure of polymer in 193 nm resist performance

Keywords: مقاومت کردن; Molecular weight; Polymer structure; 193 nm Lithography; Photo acid generator; Resist

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Consequences of non-standard bleaching on microlithographic performance

Keywords: مقاومت کردن; Optical bleaching; Resist; Process latitude; Photolithography

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Numerical study on bubble trapping in UV-nanoimprint lithography

Keywords: مقاومت کردن; UV-nanoimprint; Resist; Polymer; Contact angle; Bubble; Template; Viscos flow

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Surface characterization of plasma-modified resist patterns by ToF-SIMS analysis

Keywords: مقاومت کردن; Plasma; Inkjet; ToF-SIMS; Resist; Bank; Pixel;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

High resolution electron beam lithography of PMGI using solvent developers

Keywords: مقاومت کردن; PMGI; Electron beam lithography; Solvant developer; Resist; High resolution

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

New resists for proton beam writing

Keywords: مقاومت کردن; 07.78.+s; 85.40.Hp; 81.16.Nd; 81.15.PqProton beam writing; Direct write; High aspect ratio; Resist

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Elimination of organic contaminants from silicon wafers using high concentration ozonated-water

Keywords: مقاومت کردن; Silicon; Ozone; Water; Self-decomposition; Resist

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Micro-machining of resists on silicon by proton beam writing

Keywords: مقاومت کردن; 85.40.Hp; 85.40.Xx; 34.50.Bw; 34.50.−s; 81.15.PqProton beam writing; Micro-machining; Resist; PMMA; SU-8; Nanoimprint; Electroplating

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

CD control of direct versus complementary exposure for shaped beam writers and its correlation to the local registration error

Keywords: مقاومت کردن; e-Beam direct write; Direct exposure; Complementary exposure; Resist; Registration error; CD; Variable shaped beam

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Fabricating nanoscale device features using the 2-step NERIME nanolithography process

Keywords: مقاومت کردن; Ion beam lithography; Resist; Semiconductor device fabrication; Etch; Topography

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Development of a novel, low-viscosity UV-curable polymer system for UV-nanoimprint lithography

Keywords: مقاومت کردن; UV-nanoimprint lithography; Resist; UV curing; Spin-coating

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Systematic considerations for the patterning of photonic crystal devices by electron beam lithography

Keywords: مقاومت کردن; 42.82.Cr; 81.16.Nd; 85.40.HpPhotonic crystal; E-beam lithography; Resist; Stitching error; Proximity effect correction

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Laser controlled nanodeposition of neutral atoms

Keywords: مقاومت کردن; Atom nanofabrication; Laser manipulation; Resist; Self-assembling monolayers;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2005 سفارش ترجمه

Comparative study of calixarene and HSQ resist systems for the fabrication of sub-20 nm MOSFET device demonstrators

Keywords: مقاومت کردن; Electron beam lithography; Resist; Calixarene; HSQ;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2005 سفارش ترجمه

Novel electron beam resist material using hydrophilic protecting group

Keywords: مقاومت کردن; EB lithography; Resist; Acetal; Alicyclic; Adamantane; Lactone; Solubility parameter;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2005 سفارش ترجمه

Silicon-containing copolymers of MMA tested for a positive-tone high-resolution bi-layer e-beam resist system

Keywords: مقاومت کردن; Electron beam lithography; Resist; Bi-layer system; Silicon-loaded PMMA;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2005 سفارش ترجمه

High performance resist for EUV lithography

Keywords: مقاومت کردن; EUV; Lithography; Resist; Adamantyl methacrylate; Hydroxystyrene;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 9 صفحه سال انتشار : 2005 سفارش ترجمه