کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6943483 | 1450344 | 2015 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Supercritical fluid chemical deposition of Cu in Ru and TiN-lined deep nanotrenches using a new Cu(I) amidinate precursor
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 137, 2 April 2015, Pages 32-36
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 137, 2 April 2015, Pages 32-36
نویسندگان
Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, Hiroshi Sudoh, Hideaki Machida, Eiichi Kondoh,