کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6943584 | 1450349 | 2015 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ultimate nano-electronics: New materials and device concepts for scaling nano-electronics beyond the Si roadmap
ترجمه فارسی عنوان
نانو الکترونیک نهایی: مواد جدید و مفاهیم دستگاه برای مقیاس نانو الکترونیک فراتر از نقشه راه س
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
چکیده انگلیسی
- New materials and device architectures will be needed to extend CMOS scaling.
- High mobility materials in the channel can boost the performance at scaled supply voltage.
- Ultimate reduction of power dissipation will require new concepts like Tunnel FET.
- Vertical devices and 3D stacking allow to further downscale the transistor dimensions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 132, 25 January 2015, Pages 218-225
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 132, 25 January 2015, Pages 218-225
نویسندگان
N. Collaert, A. Alian, H. Arimura, G. Boccardi, G. Eneman, J. Franco, Ts. Ivanov, D. Lin, R. Loo, C. Merckling, J. Mitard, M.A. Pourghaderi, R. Rooyackers, S. Sioncke, J.W. Sun, A. Vandooren, A. Veloso, A. Verhulst, A.V.-Y. Thean,