| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن | 
|---|---|---|---|---|
| 6944144 | 1450372 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان | 
عنوان انگلیسی مقاله ISI
												FinFETs with ONO BOX for multi-bit unified memory
												
											دانلود مقاله + سفارش ترجمه
													دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
																																												موضوعات مرتبط
												
													مهندسی و علوم پایه
													مهندسی کامپیوتر
													سخت افزارها و معماری
												
											پیش نمایش صفحه اول مقاله
												 
												چکیده انگلیسی
												- Advanced FinFETs are fabricated on the ONO buried insulator.
- The nitride buried insulator can trap charges for the flash memory operation.
- The same device was investigated for the 1T-DRAM operation.
- By combining nonvolatile and volatile, multi-bit 1T-DRAM operation was obtained.
- Analog/logic and memory operation can be performed at the same cell.
ناشر
												Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 109, September 2013, Pages 330-333
											Journal: Microelectronic Engineering - Volume 109, September 2013, Pages 330-333
نویسندگان
												Sung-Jae Chang, Maryline Bawedin, Wade Xiong, Jong-Hyun Lee, Jung-Hee Lee, Sorin Cristoloveanu,