کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944144 | 1450372 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
FinFETs with ONO BOX for multi-bit unified memory
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
- Advanced FinFETs are fabricated on the ONO buried insulator.
- The nitride buried insulator can trap charges for the flash memory operation.
- The same device was investigated for the 1T-DRAM operation.
- By combining nonvolatile and volatile, multi-bit 1T-DRAM operation was obtained.
- Analog/logic and memory operation can be performed at the same cell.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 109, September 2013, Pages 330-333
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 109, September 2013, Pages 330-333
نویسندگان
Sung-Jae Chang, Maryline Bawedin, Wade Xiong, Jong-Hyun Lee, Jung-Hee Lee, Sorin Cristoloveanu,