کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944288 | 1450383 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A study on the comparison of CMP performance between a novel alkaline slurry and a commercial slurry for barrier removal
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠We have proposed a novel alkaline slurry without inhibitors for barrier CMP. ⺠The slurry provides lower surface roughness values and good surface quality. ⺠The slurry provides a good planarization performance. ⺠The slurry can be useful for barrier CMP.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 29-33
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 29-33
نویسندگان
Chenwei Wang, Yuling Liu, Jianying Tian, Baohong Gao, Xinhuan Niu,