کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944322 | 1450383 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Interface stability and microstructure of an ultrathin α-Ta/graded Ta(N)/TaN multilayer diffusion barrier
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠An ultrathin α-Ta/graded Ta(N)/TaN multilayer film was prepared. ⺠The reliability of Ta/TaN film is sensitive to variation of Ta phase structure. ⺠An amorphous interlayer can improve the properties of the diffusion barrier. ⺠The α-Ta/graded Ta(N)/TaN multilayer could block Cu diffusion at 700 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 80-84
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 80-84
نویسندگان
C.H. Liu, W. Liu, Y.H. Wang, Y. Wang, Z. An, Z.X. Song, K.W. Xu,