کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6944322 1450383 2012 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Interface stability and microstructure of an ultrathin α-Ta/graded Ta(N)/TaN multilayer diffusion barrier
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Interface stability and microstructure of an ultrathin α-Ta/graded Ta(N)/TaN multilayer diffusion barrier
چکیده انگلیسی
► An ultrathin α-Ta/graded Ta(N)/TaN multilayer film was prepared. ► The reliability of Ta/TaN film is sensitive to variation of Ta phase structure. ► An amorphous interlayer can improve the properties of the diffusion barrier. ► The α-Ta/graded Ta(N)/TaN multilayer could block Cu diffusion at 700 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 80-84
نویسندگان
, , , , , , ,