کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944462 | 1450383 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ion beam lithography for direct patterning of high accuracy large area X-ray elements in gold on membranes
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Ion beam lithography for direct patterning of high accuracy large area X-ray elements in gold on membranes Ion beam lithography for direct patterning of high accuracy large area X-ray elements in gold on membranes](/preview/png/6944462.png)
چکیده انگلیسی
⺠We use IBL to fabricate zone plates in 500 nm gold on silicon nitride membranes. ⺠The zone plate's diameter is 100 μm with 100 nm outermost zone width. ⺠The desired accuracy requires a 15 h process with automatic drift compensation. ⺠We analyze the quality of the zones by SEM imaging and cross sectioning. ⺠Lens functionality is proven by first X-ray measurements.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 198-201
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 198-201
نویسندگان
A. Nadzeyka, L. Peto, S. Bauerdick, M. Mayer, K. Keskinbora, C. Grévent, M. Weigand, M. Hirscher, G. Schütz,