کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6944576 1450383 2012 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Improving the lifespan of the cantilever during electron assisted AFM lithography
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Improving the lifespan of the cantilever during electron assisted AFM lithography
چکیده انگلیسی
► With the Pt-coated cantilever, we patterned on the Optool DSX (0.1%) surface by electron assisted AFM lithography. ► The delineated distance of the line pattern was 2000 μm (= 2 mm). ► The line width remained constant at 60 nm from start to finish. ► The lifespan of the cantilever was improved by more than 8 times. ► Electron assisted AFM lithography provides a simple, low-cost nano-imprint lithography mold fabrication.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 288-292
نویسندگان
, , ,