کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944576 | 1450383 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Improving the lifespan of the cantilever during electron assisted AFM lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠With the Pt-coated cantilever, we patterned on the Optool DSX (0.1%) surface by electron assisted AFM lithography. ⺠The delineated distance of the line pattern was 2000 μm (= 2 mm). ⺠The line width remained constant at 60 nm from start to finish. ⺠The lifespan of the cantilever was improved by more than 8 times. ⺠Electron assisted AFM lithography provides a simple, low-cost nano-imprint lithography mold fabrication.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 288-292
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 288-292
نویسندگان
Takao Inoue, Jun Taniguchi, Toshihiko Ochi,