کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944585 | 1450383 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication of porous material for micro component application by direct X-ray lithography and sintering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Fabrication of porous material for micro component application by direct X-ray lithography and sintering Fabrication of porous material for micro component application by direct X-ray lithography and sintering](/preview/png/6944585.png)
چکیده انگلیسی
⺠We do X-ray exposure to the feedstock contains Steel powder and SU-8 photoresist. ⺠Development process succeeds to separate exposed and non-exposed area of SU-8. ⺠TGA analysis of SU-8 was examined to find the optimum debinding parameter. ⺠Sintering process in low temperature will promote necking and pores formation. ⺠A remain SU-8 still exist in the center of cross section area from sintered sample.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 297-300
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 98, October 2012, Pages 297-300
نویسندگان
Andy Tirta, Eung Ryul Baek, Suk Sang Chang, Jong Hyun Kim,