کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6978210 | 1453865 | 2016 | 12 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of different chemical surface patterns on the dynamic wetting behaviour on flat and silanized silicon wafers during inclining-plate measurements: An experimental investigation with the high-precision drop shape analysis approach
ترجمه فارسی عنوان
تأثیر الگوهای سطوح مختلف شیمیایی بر رفتار خیساندن پویا روی وفلهای سیلیکونی صاف و سیانانی در طول اندازه گیری صفحات لبه: یک مطالعه تجربی با روش تحلیل دقیق شکل دقت بالا
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
زاویه تماس، مرطوب کننده ورق خمشی آبگریز، زاویه پیشرفته زاویه ورودی تجزیه و تحلیل شکل قطره دقت بالا،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
شیمی کلوئیدی و سطحی
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects - Volume 508, 5 November 2016, Pages 274-285
Journal: Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects - Volume 508, 5 November 2016, Pages 274-285
نویسندگان
F. Heib, W.M. Munief, S. Ingebrandt, R. Hempelmann, M. Schmitt,