کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7118575 | 1461400 | 2016 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of the deposition rate on the phase transition in silver telluride thin films
ترجمه فارسی عنوان
اثر میزان افت در انتقال فاز در فیلم های نازک تلوراید نقره
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
تلورید نقره ای، نرخ رسوب، مقاومت الکتریکی، انتقال فاز،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
چکیده انگلیسی
Silver telluride thin films of thickness 50Â nm have been deposited at different deposition rates on glass substrates at room temperature and at a pressure of 2Ã10â5Â mbar. The electrical resistivity was measured in the temperature range 300-430Â K. The temperature dependence of the electrical resistance of Ag2Te thin films shows structural phase transition and coexistence of low temperature monoclinic phase and high temperature cubic phase. The effect of deposition rate on the phase transition and the electrical resistivity of silver telluride thin films in relation to carrier concentration and mobility are discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 47, 1 June 2016, Pages 12-15
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 47, 1 June 2016, Pages 12-15
نویسندگان
P. Gnanadurai, N. Soundararajan, C.E. Sooriamoorthy,