کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
729512 | 892904 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Epitaxy of Si:C on Si(001) via methyldichlorosilane
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Methyldichlorosilane (CH3SiHCl2) is compared to methylsilane (CH3SiH3) for vapor phase epitaxy of cubic silicon - carbon (NO :) (Si:C) alloys on Si (001). Parameters of interest are growth rate, percent carbon and crystallinity. Carbon incorporation efficiency and experimental window for epitaxial growth are similar for both precursors. The two precursors differ in Si contribution to the film growth rate.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 16, Issue 4, August 2013, Pages 1086-1089
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 16, Issue 4, August 2013, Pages 1086-1089
نویسندگان
Pierre Tomasini,