کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
729625 | 1461431 | 2010 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Region-dependent behavior of I–V characteristics in n-ZnO:Al/p-Si contacts
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The discrepancy of rectifying characteristics in n-ZnO:Al/p-Si heterojunctions from diode to diode was demonstrated by region dependent dark I–V characteristics, where the junction is laterally cut to sequentially decrease the area. Further investigation shows that the junction (2.1×2.1 cm2) with the barrier height Φ=0.693 eV consists of one part (2.1×1.4 cm2) with Φ=0.695 eV and the other part (2.1×0.7 cm2) with Φ=0.686 eV. It is found that reverse currents saturate with different values of 3.6×10−3, 2.5×10−3 and 1.58×10−3 A for the light I–V curves of the three junctions with the same areas. To explain this peculiarity, the probable reason is discussed in terms of carrier transportation through the spatially fluctuating barrier.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 13, Issues 5–6, 15 December 2010, Pages 339–343
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 13, Issues 5–6, 15 December 2010, Pages 339–343
نویسندگان
L. Shen, H.W. Du, H. Ding, J. Tang, Z.Q. Ma,