کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7876479 1509529 2018 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High mobility single-crystalline-like silicon thin films on inexpensive flexible metal foils by plasma enhanced chemical vapor deposition
ترجمه فارسی عنوان
تحرک بالا بر روی فیلم های نازک سیلیکونی تک فاز بر روی فلزی ورق فلزی انعطاف پذیر با افزایش پلاسمای تهیه پوشش بخار شیمیایی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سرامیک و کامپوزیت
چکیده انگلیسی
Epitaxial single-crystalline-like Silicon films were deposited using plasma-enhanced chemical vapor deposition on low-cost, light-weight and flexible metal foils. Controllable doping with high electron and hole mobilities were achieved.237
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Acta Materialia - Volume 147, 1 April 2018, Pages 51-58
نویسندگان
, , , , , , , ,