کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
81025 | 49415 | 2008 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electrochromic WO3 thin films active in the IR region
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
کاتالیزور
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Herein, we investigate the electrochromic performances in the infrared (IR) region, in particular in the midwavelength (MW, 3–5 μm) and long wavelength (LW, 8–12 μm) bands, of WO3 thin films grown by RF-sputtering and pulsed laser deposition. For an optimized voltage window, 200 nm room temperature thin films are the most efficient in the MW band, with the highest contrast in reflection, namely 35%, whereas thicker films, typically 500 nm, are required in the LW band. At 400 °C films show contrasts in reflection lower than 10%, surprisingly associated with a reasonable insertion amount of 0.20. Indeed, no straight correlation between the electrochemical and the optical properties in the IR region was established.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 92, Issue 2, February 2008, Pages 209–215
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 92, Issue 2, February 2008, Pages 209–215
نویسندگان
K. Sauvet, A. Rougier, L. Sauques,