کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9618689 | 49464 | 2005 | 11 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Thickness determination of thin (â¼20Â nm) microcrystalline silicon layers
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
کاتالیزور
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Thickness determination of thin (â¼20Â nm) microcrystalline silicon layers Thickness determination of thin (â¼20Â nm) microcrystalline silicon layers](/preview/png/9618689.png)
چکیده انگلیسی
By analyzing the data of thin μc-Si:H layers (â¼20 nm) as well as of thicker layers (â¼100 nm) and comparing the results to thicknesses measured with X-TEM, we conclude that as long as the density of thin layers is identical to the thicker layers, with the optical method a good approximation of thickness of microcrystalline silicon layers is possible at a layer thickness down to 20 nm.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 87, Issues 1â4, May 2005, Pages 445-455
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 87, Issues 1â4, May 2005, Pages 445-455
نویسندگان
A. Gordijn, J. Löffler, W.M. Arnoldbik, F.D. Tichelaar, J.K. Rath, R.E.I. Schropp,