کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
9670600 1450404 2005 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A single-step process for making nanofluidic channels using electron beam lithography
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
A single-step process for making nanofluidic channels using electron beam lithography
چکیده انگلیسی
In this work, we demonstrate a simple, single-step process using electron-beam lithography to write parallel ribs of cross-linked UV-3 resist. The resist is spun on to a SiO2 layer on a silicon substrate. If the resist thickness, electron dose, rib width and gap width all lie within a limited range, then the ribs collapse or fold towards each other making a sealed contact at the apex. This action depends on the exploitation of the forces of surface tension and capillarity during the final drying process.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volumes 78–79, March 2005, Pages 343-348
نویسندگان
, ,