کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9670600 | 1450404 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A single-step process for making nanofluidic channels using electron beam lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
In this work, we demonstrate a simple, single-step process using electron-beam lithography to write parallel ribs of cross-linked UV-3 resist. The resist is spun on to a SiO2 layer on a silicon substrate. If the resist thickness, electron dose, rib width and gap width all lie within a limited range, then the ribs collapse or fold towards each other making a sealed contact at the apex. This action depends on the exploitation of the forces of surface tension and capillarity during the final drying process.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volumes 78â79, March 2005, Pages 343-348
Journal: Microelectronic Engineering - Volumes 78â79, March 2005, Pages 343-348
نویسندگان
J.L. Pearson, D.R.S. Cumming,