کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
9699167 1461440 2005 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Simultaneous optical measurement of Ge content and Boron doping in strained epitaxial films using a novel data-analysis technique
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه سایر رشته های مهندسی مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Simultaneous optical measurement of Ge content and Boron doping in strained epitaxial films using a novel data-analysis technique
چکیده انگلیسی
The Ge-fractions found were in good agreement with XRD and SIMS whilst the calculated “doping parameter” was found to follow a monotonic relationship with changes in Boron concentration in each case.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 8, Issues 1–3, February–June 2005, Pages 261-266
نویسندگان
, , , , ,