کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9699171 | 1461440 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
SiGeC HBTs : The TCAD Challenge Reduced to Practice
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: SiGeC HBTs : The TCAD Challenge Reduced to Practice SiGeC HBTs : The TCAD Challenge Reduced to Practice](/preview/png/9699171.png)
چکیده انگلیسی
This paper reflects on practical aspects of a TCAD chain for SiGe:C HBTs, that has been successfully used for the development of a 0.18 μm low-power and 0.13 μm high-speed BiCMOS technology. The availability of a predictive TCAD chain from process to circuit simulations is important for the timely delivery of a new technology fulfilling circuit-level requirements. The boron and carbon diffusion in the SiGeC HBT process simulations under equilibrium and transient enhanced diffusion condition, supporting simulation tools for device optimization and the importance of two-dimensional effects will be addressed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 8, Issues 1â3, FebruaryâJune 2005, Pages 283-288
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 8, Issues 1â3, FebruaryâJune 2005, Pages 283-288
نویسندگان
Stefaan Decoutere, Arturo Sibaja-Hernandez,