کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9789615 | 1512912 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nanofabrication of tungsten supertip by electron-beam-induced deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Two methods were used to fabricate tungsten supertips by electron-beam-induced deposition using 200Â keV electrons. The first method is stationary deposition of self-standing tips. The smallest lateral size is less than 10Â nm with a rather low aspect ratio of tip. High aspect ratio (up to 30) can only be obtained at a big lateral size with a saturated root diameter of 60-65Â nm. The other method is scan deposition of self-supporting tip, with a root width of 7-10Â nm and a sharp apex in size of 3Â nm. Using this method a higher aspect ratio (more than 72) can be achieved at a smaller lateral size, which is better to fabricate fine supertips for usage.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 29, Issues 3â4, November 2005, Pages 702-706
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 29, Issues 3â4, November 2005, Pages 702-706
نویسندگان
Z.Q. Liu, K. Mitsuishi, K. Furuya,