کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9830227 | 1524505 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Room temperature chemical vapor deposition of c-axis ZnO
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Room temperature chemical vapor deposition of c-axis ZnO Room temperature chemical vapor deposition of c-axis ZnO](/preview/png/9830227.png)
چکیده انگلیسی
Highly (0 0 2) oriented ZnO films have been deposited at temperatures between 25 and 230 °C by high-vacuum plasma-assisted chemical vapor deposition (HVP-CVD) on glass and silicon substrates. The HVP-CVD process was found to be weakly activated with an apparent activation energy of â¼0.1 eV, allowing room temperature synthesis. Films deposited on both substrates displayed a preferential c-axis texture over the entire temperature range. Films grown on glass demonstrated high optical transparency throughout the visible and near infrared.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 274, Issues 3â4, 1 February 2005, Pages 412-417
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 274, Issues 3â4, 1 February 2005, Pages 412-417
نویسندگان
Teresa M. Barnes, Jacquelyn Leaf, Cassandra Fry, Colin A. Wolden,