کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10407397 | 892951 | 2005 | 16 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ultra-short pulsed laser deposition and patterning of SiC thin films for MEMS fabrication
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
Ablation - تخریبChemical vapor deposition - رسوب بخار شیمیایی یا انباشت به روش تبخیر شیمیاییMicro-electro-mechanical systems - سیستم های میکرو الکترومکانیکیSilicon carbide - سیلیکون کاربیدActuator - عملگر هیدرولیک، اکتواتور یا اکچویتورThin film - لایه نازکPulsed laser deposition - لایهنشانی یا رسوبنشانی به کمک لیزر پالسی یا سایش لیزریSemiconductor - نیمرسانا یا نیمههادی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A Ti:Sapphire (IR 800-nm) femtosecond (fs) pulsed laser was used to ablate a sputtering grade of silicon carbide (SiC) in an ultra-high vacuum chamber. The laser-induced plasma species were then driven and grown to form 3C-SiC films of about 1 μm thick on single crystal silicon wafers at 20 °C (room temperature) and 500 °C. Scanning electron microscopy, atomic force microscopy, X-ray photoelectron microscopy, X-ray diffraction and nanoindentation were used to characterize the structure, composition, thickness and properties of the SiC films. Results of the femtosecond-pulse laser deposited (fs-PLD) films were compared with those obtained by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD) and nanosecond-pulse laser (excimer laser at 248-nm) deposition (ns-PLD). The distinctive features of fs-PLD films are their extremely smooth surfaces, stoichiometry, amorphous structure and low defect density compared to APCVD films, along with better film quality and higher growth rates than ns-PLD films. In addition to film growth studies, a SiC microgripper (to grab 20-μm-sized objects) was micromachined by use of the fs-pulsed laser to demonstrate the utility of ultra-short PLD in SiC-device fabrication.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 8, Issue 6, 2005, Pages 630-645
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 8, Issue 6, 2005, Pages 630-645
نویسندگان
Monica Vendan, Pal Molian, Ashraf Bastawros, James Anderegg,