کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1544172 1512880 2015 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Simulation analysis of a novel fully depleted SOI MOSFET: Electrical and thermal performance improvement through trapezoidally doped channel and silicon-nitride buried insulator
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Simulation analysis of a novel fully depleted SOI MOSFET: Electrical and thermal performance improvement through trapezoidally doped channel and silicon-nitride buried insulator
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 69, May 2015, Pages 27-33
نویسندگان
, ,