کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1793791 | 1023683 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Carbon reduction and antimony incorporation in InGaAsSb films grown by metalorganic molecular beam epitaxy using tris-dimethylaminoantimony
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
InGaAsSb layers nearly lattice-matched to InP were grown by metalorganic molecular beam epitaxy using tris-dimethylaminoantimony (TDMASb). Secondary-ion mass spectroscopy measurements revealed that TDMASb is useful not only as an Sb source but also as an additive that reduces the incorporation of C into the film from group-III metalorganic sources. In the room-temperature photoluminescence spectrum, the incorporation of Sb into InGaAs shifted the peak wavelength from 1.66 to 1.75 μm and, simultaneously, the peak intensity of InGaAsSb became more than twice that of InGaAs.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 311, Issue 14, 1 July 2009, Pages 3636-3639
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 311, Issue 14, 1 July 2009, Pages 3636-3639
نویسندگان
Manabu Mitsuhara, Tomonari Sato, Norio Yamamoto, Hideki Fukano, Yasuhiro Kondo,