کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1797267 | 1023775 | 2006 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Vapor-phase epitaxy of gallium nitride by gallium arc discharge evaporation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Potential advantages of the described growth technique are cheap source materials of high purity and low equipment costs. Furthermore, since no corrosive gasses were used, hardware corrosion and gas-phase impurities can be reduced.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 293, Issue 2, 1 August 2006, Pages 335-343
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 293, Issue 2, 1 August 2006, Pages 335-343
نویسندگان
S. Heikman, S. Keller, U.K. Mishra,