کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
4970846 1450303 2017 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Examining the relationship between capacitance-voltage hysteresis and accumulation frequency dispersion in InGaAs metal-oxide-semiconductor structures based on the response to post-metal annealing
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Examining the relationship between capacitance-voltage hysteresis and accumulation frequency dispersion in InGaAs metal-oxide-semiconductor structures based on the response to post-metal annealing
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 204-208
نویسندگان
, , , , , ,