کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
4971109 1450313 2017 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Removal rate and surface quality of the GLSI silicon substrate during the CMP process
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Removal rate and surface quality of the GLSI silicon substrate during the CMP process
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 168, 25 January 2017, Pages 76-81
نویسندگان
, , , , , , , , ,