کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
540122 1450398 2007 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Improving the sensitivity and line edge roughness in inorganic positive electron beam resist
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Improving the sensitivity and line edge roughness in inorganic positive electron beam resist
چکیده انگلیسی

Need for inorganic electron beam resist with higher sensitivity and resolution is indisputable. We have developed such a resist that also shows lower line edge roughness. It is pre-baked at 300 °C. By using 4 kV EB we have delineated 40 nm lines pattern and honeycomb structure Photonic crystal pattern.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 84, Issues 5–8, May–August 2007, Pages 1071–1074
نویسندگان
, , , , , ,