کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5489831 | 1524373 | 2016 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Homoepitaxial growth of HVPE-GaN doped with Si
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Results of growth of high structural quality gallium nitride single crystals doped with silicon are described in this paper. Dichlorosilane was used as precursor of silicon in the hydride vapor phase epitaxy method. Crystallization runs with different flows of dichlorosilane were performed and compared. One-inch free-standing HVPE-GaN crystals of high structural quality and high purity, previously grown on ammonothermal GaN substrates, were used as seeds. Structural, electrical, and optical properties of HVPE-GaN doped with silicon are presented and discussed in detail. A laser diode built on the homoepitaxially grown GaN is demonstrated.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 456, 15 December 2016, Pages 91-96
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 456, 15 December 2016, Pages 91-96
نویسندگان
M. Iwinska, T. Sochacki, M. Amilusik, P. Kempisty, B. Lucznik, M. Fijalkowski, E. Litwin-Staszewska, J. Smalc-Koziorowska, A. Khapuridze, G. Staszczak, I. Grzegory, M. Bockowski,