دانلود رایگان مقاله ISI : تأثیر اچینگ واکنش پذیری پلاسمای بر روی میکروارگانیسم های پلی وینیل سیلیکات متخلخل پایین و ترکیب شیمیایی

Impact of plasma reactive ion etching on low dielectric constant porous organosilicate films' microstructure and chemical composition

Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microporous and Mesoporous Materials - Volume 228, 1 July 2016, Pages 297-304

Matthieu Lépinay, Daniel Lee, Riccardo Scarazzini, Michel Bardet, Marc Veillerot, Lucile Broussous, Christophe Licitra, Vincent Jousseaume, François Bertin, Vincent Rouessac, André Ayral,