کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6610688 | 459558 | 2015 | 20 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structure of the Copper-Enriched Layer Introduced by Anodic Oxidation of Copper-Containing Aluminium Alloy
ترجمه فارسی عنوان
ساختار لایه های غنی از مس که توسط اکسیداسیون آنودایز از آلیاژ آلومینیوم حاوی مس
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
چکیده انگلیسی
This paper investigates the structure of the copper-enriched layer formed at the alloy/anodic film interface during anodizing of Al-2 wt.% Cu binary alloy using transmission electron microscopy. It was revealed that θⲠphase was formed within the copper-enriched layer. For the copper-enriched layer formed on {1 0 0} aluminum planes, the interface between the aluminum matrix and the θⲠphase within the copper-enriched layer is coherent. For the copper-enriched layer formed on {1 1 0} and {1 1 1} aluminum planes, the interfaces between the aluminum matrix and the θⲠphase within the copper-enriched layer are semi-coherent or incoherent. The interfacial coherency influences the formation of oxygen gas bubbles within the resultant anodic films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Electrochimica Acta - Volume 179, 10 October 2015, Pages 394-401
Journal: Electrochimica Acta - Volume 179, 10 October 2015, Pages 394-401
نویسندگان
T. Hashimoto, X. Zhou, P. Skeldon, G.E. Thompson,