کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6943972 | 1450373 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Chemical mechanical planarization of barrier layers by using a weakly alkaline slurry
ترجمه فارسی عنوان
پلاریزاسیون مکانیکی لایه های سد با استفاده از دوغاب ضعیف قلیایی
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
مکانیزم مکانیکی شیمیایی، لایه مانع، دوغاب قلیایی ضعیف، دیش و فرسایش تصحیح،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
چکیده انگلیسی
- We have proposed a novel weakly alkaline barrier slurry without inhibitors and unstable H2O2 for barrier CMP.
- The slurry has an effectively effect on the correction of dishing and erosion.
- The slurry provides a lower copper loss.
- The slurry has been applied in barrier CMP.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 108, August 2013, Pages 71-75
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 108, August 2013, Pages 71-75
نویسندگان
Chenwei Wang, Jiaojiao Gao, Jianying Tian, Xinhuan Niu, Yuling Liu,