کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6943991 | 1450372 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Interface engineering of Ge using thulium oxide: Band line-up study
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
- Thulium oxide layers on germanium were investigated.
- The valence band offset was found to be 2.95Â eV.
- The band gap of thulium oxide was found to be 5.3Â eV from the Tauc method.
- A sub-band gap absorption at 3.2Â eV points to a bulk thulium oxide defect.
- A permittivity of 14 was derived from electrical measurements.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 109, September 2013, Pages 204-207
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 109, September 2013, Pages 204-207
نویسندگان
I.Z. Mitrovic, M. Althobaiti, A.D. Weerakkody, N. Sedghi, S. Hall, V.R. Dhanak, P.R. Chalker, C. Henkel, E. Dentoni Litta, P.-E. Hellström, M. Ãstling,