کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6943991 1450372 2013 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Interface engineering of Ge using thulium oxide: Band line-up study
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Interface engineering of Ge using thulium oxide: Band line-up study
چکیده انگلیسی

- Thulium oxide layers on germanium were investigated.
- The valence band offset was found to be 2.95 eV.
- The band gap of thulium oxide was found to be 5.3 eV from the Tauc method.
- A sub-band gap absorption at 3.2 eV points to a bulk thulium oxide defect.
- A permittivity of 14 was derived from electrical measurements.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 109, September 2013, Pages 204-207
نویسندگان
, , , , , , , , , , ,