کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
729521 | 892904 | 2013 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
OMVPE of InAs quantum dots on an InGaP surface
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The organometallic vapor phase epitaxy of InAs quantum dots has been investigated by comparing the effect the underlying surface has on the quantum dot physical characteristics. Atomic force microscopy measurements were used to identify the InAs QDs coalesce to significantly larger size when deposited on an InGaP surface compared to a GaAs surface. Quantitative assessment of the total QD volume on different surfaces such as GaAs, InGaP, and GaAsP implicates the role of indium in the underlying surface for the increase in QD size on InGaP surfaces.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 16, Issue 4, August 2013, Pages 1148–1153
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 16, Issue 4, August 2013, Pages 1148–1153
نویسندگان
David V. Forbes, A.M. Podell, M.A. Slocum, S.J. Polly, S.M. Hubbard,