کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7940476 1513194 2017 20 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Formation kinetics and mechanism of metastable vacancy-dioxygen complex in neutron irradiated Czochralski silicon
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Formation kinetics and mechanism of metastable vacancy-dioxygen complex in neutron irradiated Czochralski silicon
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Superlattices and Microstructures - Volume 107, July 2017, Pages 91-96
نویسندگان
, , , , , ,