کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8148984 | 1524346 | 2018 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Computational analysis of heat transfer, thermal stress and dislocation density during resistively Czochralski growth of germanium single crystal
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
In this paper, a set of numerical simulations of fluid flow, temperature gradient, thermal stress and dislocation density for a Czochralski setup used to grow IR optical-grade Ge single crystal have been done for different stages of the growth process. A two-dimensional steady state finite element method has been applied for all calculations. The obtained numerical results reveal that the thermal field, thermal stress and dislocation structure are mainly dependent on the crystal height, heat radiation and gas flow in the growth system.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 483, 1 February 2018, Pages 125-133
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 483, 1 February 2018, Pages 125-133
نویسندگان
Mohammad Hossein Tavakoli, Elahe Kabiri Renani, Mohtaram Honarmandnia, Mahdi Ezheiyan,