کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8150086 | 1524409 | 2015 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A sample chamber for in situ high-energy X-ray studies of crystal growth at deeply buried interfaces in harsh environments
ترجمه فارسی عنوان
یک محفظه نمونه برای مطالعات اشعه ایکس با انرژی بالا در محل رشد کریستال در مکان های عمیق خاکی در محیط های خشن
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
چکیده انگلیسی
We introduce a high pressure high temperature chamber for in situ synchrotron X-ray studies. The chamber design allows for in situ studies of thin film growth from solution at deeply buried interfaces in harsh environments. The temperature can be controlled between room temperature and 1073Â K while the pressure can be set as high as 50Â bar using a variety of gases including N2 and NH3. The formation of GaN on the surface of a Ga13Na7 melt at 1073Â K and 50Â bar of N2 is presented as a performance test.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 420, 15 June 2015, Pages 84-89
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 420, 15 June 2015, Pages 84-89
نویسندگان
A.E.F. de Jong, V. Vonk, V. Honkimäki, B. Gorges, H. Vitoux, E. Vlieg,