کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
9670364 1450401 2005 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
TaN/Ta bilayer barrier characteristics and integration for 90 and 65 nm nodes
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
TaN/Ta bilayer barrier characteristics and integration for 90 and 65 nm nodes
چکیده انگلیسی
These results presented in this paper clarify the role of individual process steps during the barrier deposition.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 82, Issues 3–4, December 2005, Pages 613-617
نویسندگان
, , , , , , ,