کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9699145 | 1461440 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Misfit dislocation nucleation and multiplication in fully strained SiGe/Si heterostructures under thermal annealing
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
An evolution of dislocation structure formed in fully strained Si1âxGex/Si(0 0 1) heterostructures during thermal annealing was studied. Heterostructures with Ge content x=0.15 and 0.30 were grown by MBE on low-temperature Si(400 °C) and SiGe(250 °C) buffer layers. The main attention was devoted to the initial stages of strain relaxation and to the role of intrinsic point defects in misfit dislocation nucleation. A mechanism is proposed for the misfit dislocation nucleation at heterogeneous sources placed within SiGe epitaxial layer.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 8, Issues 1â3, FebruaryâJune 2005, Pages 137-141
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 8, Issues 1â3, FebruaryâJune 2005, Pages 137-141
نویسندگان
M. Rzaev, F. Schäffler, V. Vdovin, T. Yugova,