| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن | 
|---|---|---|---|---|
| 9829840 | 1524499 | 2005 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان | 
عنوان انگلیسی مقاله ISI
												High-power 1.3μm InAs/GaInAs/GaAs QD lasers grown in a multiwafer MBE production system
												
											دانلود مقاله + سفارش ترجمه
													دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
																																												کلمات کلیدی
												
											موضوعات مرتبط
												
													مهندسی و علوم پایه
													فیزیک و نجوم
													فیزیک ماده چگال
												
											پیش نمایش صفحه اول مقاله
												 
												چکیده انگلیسی
												High-performance (high optical output power, high efficiency), GaAs-based Quantum Dots (QD) 1.3μm edge emitting laser (EEL) results are presented. The active region is based on multiple stacks of InAs/GaInAs/GaAs QD. The whole structure has been grown in a multiwafer production MBE system (using 5Ã3â³ substrate holders). Threshold current density of 190A/cm2 and high differential quantum efficiency of 70% were obtained at room temperature. These excellent values in addition to good I-V characteristics (1.1 V turn on voltage and series resistance as low as 2Ã10-4Ωcm2) led to record continuous wave (CW) output power of 4.2 W for broad area devices (100μm wide, 1600μm long).
											ناشر
												Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 278, Issues 1â4, 1 May 2005, Pages 335-341
											Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 278, Issues 1â4, 1 May 2005, Pages 335-341
نویسندگان
												A. Wilk, A.R. Kovsh, S.S. Mikhrin, C. Chaix, I.I. Novikov, M.V. Maximov, Yu.M. Shernyakov, V.M. Ustinov, N.N. Ledentsov,