![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Effects of rf power on the structural properties of carbon nitride thin films prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition
Keywords: نیترید کربن; Carbon nitride; rf PECVD; rf power; Structural properties; H etching; Ion bombardment effect