کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1673810 | 1008953 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
XPS study of carbon nitride films deposited by hot filament chemical vapor deposition using carbon filament
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: XPS study of carbon nitride films deposited by hot filament chemical vapor deposition using carbon filament XPS study of carbon nitride films deposited by hot filament chemical vapor deposition using carbon filament](/preview/png/1673810.png)
چکیده انگلیسی
Amorphous carbon nitride, a-CNx, thin films were deposited by hot filament CVD using a carbon filament with dc negative bias voltage on the substrate. The effects of the negative bias and the filament components on the binding structure of the films are investigated by XPS. The composition ratio of graphite to amorphous carbon in the filaments affects the bonding structure of carbon and nitrogen in the films, although the nitrogen content in the films is almost same as 0.1. The nitrogen content in the films changes from 0.1 to 0.3 as the negative bias changes from 0 to − 300 V.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 516, Issue 5, 15 January 2008, Pages 648–651
Journal: Thin Solid Films - Volume 516, Issue 5, 15 January 2008, Pages 648–651
نویسندگان
Masami Aono, Shinichiro Aizawa, Nobuaki Kitazawa, Yoshihisa Watanabe,