کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی ترجمه فارسی نسخه تمام متن
1663831 1517995 2016 4 صفحه PDF سفارش دهید دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Submicron-scale diamond selective-area growth by hot-filament chemical vapor deposition
ترجمه فارسی عنوان
رشد ناحیه انتخابی الماس در مقیاس زیرمیکرون توسط رسوب بخار شیمیایی رشته داغ
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
سفارش ترجمه تخصصی
با تضمین قیمت و کیفیت
کلمات کلیدی
الماس؛ رشد انتخابی؛ بور؛ رشته داغ CVD؛ رامان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی


• Diamond films were selectively grown with Ti/Au masks by hot-filament CVD.
• Contamination from metal masks to diamond was effectively suppressed.
• Submicron scale patterning with good surface morphology was realized.

Selective-area growth, which can be an alternative to ion implantation, is an important technology for processing diamond power devices. In conventional chemical vapor deposition (CVD), a portion of the metal mask (non-growing region) peels off and is unintentionally incorporated into the film; therefore, creating high-quality fine patterns is a great challenge. In this study, we developed a technique to fabricate fine structures on a submicron scale by employing hot-filament (HF) CVD. The mask pattern was kept intact during growth, and submicron-scale selective-area growth was realized. As a result, contamination-free metallic p+ diamond films possessing a smooth surface morphology were successfully selectively grown.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 615, 30 September 2016, Pages 239–242
نویسندگان
, , , ,
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
سفارش ترجمه تخصصی
با تضمین قیمت و کیفیت