کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10669789 1008839 2012 9 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Formation of Hf- and Ta-aluminates by reactive ion beam mixing of X/Al interfaces (X = Hf or Ta)
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Formation of Hf- and Ta-aluminates by reactive ion beam mixing of X/Al interfaces (X = Hf or Ta)
چکیده انگلیسی
► Hf- and Ta-aluminates thin films grown by reactive ion beam mixing of interfaces. ► Study of the kinetics of growth, composition and electronic structure of the films. ► Reactive ion beam mixing kinetics of two stages found by factor analysis. ► Changes in electronic structure occur during the formation of mixed oxide species.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 15, 31 May 2012, Pages 4902-4910
نویسندگان
,