کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10669883 | 1008845 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Carbonized tantalum catalysts for catalytic chemical vapor deposition of silicon films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Si films prepared by catalytic chemical vapor deposition. ⺠Carbonized Ta with a TaC surface layer used as catalyst. ⺠TaC surface structure preserved after long-term use in a wide temperature range. ⺠Help to solve the ageing problem of metal catalysts. ⺠Si film obtained has a similar crystal structure to that prepared by Ta catalyst.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5155-5160
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5155-5160
نویسندگان
Shimin Cheng, Huiping Gao, Tong Ren, Pinliang Ying, Can Li,