کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10669891 1008845 2012 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Initial deposition and electron paramagnetic resonance defects characterization of TiO2 films prepared using successive ionic layer adsorption and reaction method
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Initial deposition and electron paramagnetic resonance defects characterization of TiO2 films prepared using successive ionic layer adsorption and reaction method
چکیده انگلیسی
► TiO2 films are deposited on glass at 25 °C by successive ionic layer adsorption and reaction method with a rate of 4.6 Å/cycle. ► The films nucleate in an island mode initially but grow in a layer mode afterwards. ► The SILAR TiO2 films nucleation period is five cycles. ► Electron paramagnetic resonance spectroscopy shows that TiO2 films paramagnetic defects are attributed to oxygen vacancies. ► They will decrease by anneal or ultraviolet radiation and form hydroxyl or superoxide radicals.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5184-5190
نویسندگان
, , , ,