کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10669891 | 1008845 | 2012 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Initial deposition and electron paramagnetic resonance defects characterization of TiO2 films prepared using successive ionic layer adsorption and reaction method
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠TiO2 films are deposited on glass at 25 °C by successive ionic layer adsorption and reaction method with a rate of 4.6 Ã
/cycle. ⺠The films nucleate in an island mode initially but grow in a layer mode afterwards. ⺠The SILAR TiO2 films nucleation period is five cycles. ⺠Electron paramagnetic resonance spectroscopy shows that TiO2 films paramagnetic defects are attributed to oxygen vacancies. ⺠They will decrease by anneal or ultraviolet radiation and form hydroxyl or superoxide radicals.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5184-5190
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5184-5190
نویسندگان
Yiyong Wu, Yaping Shi, Xianbin Xu, Chengyue Sun,