کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10669908 | 1008845 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Optimization in fabricating bismuth telluride thin films by ion beam sputtering deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Stoichiometric Bi2Te3 thermoelectric thin films are achieved by ion beam sputtering. ⺠The films have single Bi2Te3 phase and preferential orientation along the c-axis. ⺠The films have high thermoelectric properties comparable with others best results. ⺠High quality Bi2Te3 films must be deposited at appropriate substrate temperature.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5245-5248
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5245-5248
نویسندگان
Z.H. Zheng, P. Fan, T.B. Chen, Z.K. Cai, P.J. Liu, G.X. Liang, D.P. Zhang, X.M. Cai,