کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10669908 1008845 2012 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Optimization in fabricating bismuth telluride thin films by ion beam sputtering deposition
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Optimization in fabricating bismuth telluride thin films by ion beam sputtering deposition
چکیده انگلیسی
► Stoichiometric Bi2Te3 thermoelectric thin films are achieved by ion beam sputtering. ► The films have single Bi2Te3 phase and preferential orientation along the c-axis. ► The films have high thermoelectric properties comparable with others best results. ► High quality Bi2Te3 films must be deposited at appropriate substrate temperature.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5245-5248
نویسندگان
, , , , , , , ,